Chemical vapour deposition of tungsten from WF6/SiH4 and WF6/GeH4 / Cornelius Alexander van der Jeugd - Nederlandse Bibliografie Totaal (NBT) - Fedor - Netwerk Digitaal Erfgoed

Chemical vapour deposition of tungsten from WF6/SiH4 and WF6/GeH4 / Cornelius Alexander van der Jeugd

Chemical vapour deposition of tungsten from WF6/SiH4 and WF6/GeH4 / Cornelius Alexander van der Jeugd

http://data.bibliotheken.nl/id/nbt/p099247593

b260da2f883a1d13dc5192ff136f7af9

mainEntity

Chemical vapour deposition of tungsten from WF6/SiH4 and WF6/GeH4 / Cornelius Alexander van der Jeugd

http://data.bibliotheken.nl/id/nbt/p099247593

about

author

description

Auteursnaam op omslag: Kees van der Jeugd

http://www.w3.org/2001/XMLSchema#string

Proefschrift Technische Universiteit Delft

http://www.w3.org/2001/XMLSchema#string

inLanguage

en

http://www.w3.org/2001/XMLSchema#string

mainEntityOfPage

b260da2f883a1d13dc5192ff136f7af9

name

Chemical vapour deposition of tungsten from WF6/SiH4 and WF6/GeH4

http://www.w3.org/2001/XMLSchema#string

numberOfPages

112

http://www.w3.org/2001/XMLSchema#integer

publication

e05d2eb99b3e10ac1c5e208801a0754e

sameAs

type

label

Chemical vapour deposition of ...... nelius Alexander van der Jeugd

http://www.w3.org/2001/XMLSchema#string